Basit öğe kaydını göster

Annealing effects of ZnO thin films on p-Si(100) substrate deposited by PFCVAD

dc.contributor.authorŞenadım Tüzemen, Ebru
dc.contributor.authorKARA, Kamuran
dc.contributor.authorEsen, Ramazan
dc.date.accessioned2021-03-04T18:00:02Z
dc.date.available2021-03-04T18:00:02Z
dc.identifier.citationKARA K., Şenadım Tüzemen E., Esen R., "Annealing effects of ZnO thin films on p-Si(100) substrate deposited by PFCVAD", Turkish Journal of Physics, cilt.38, ss.238-244, 2014
dc.identifier.issn0037-9271
dc.identifier.othervv_1032021
dc.identifier.otherav_8865dd3c-d927-4eab-8b9d-1a5d735e0301
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12627/92562
dc.identifier.urihttp://journals.tubitak.gov.tr/physics/issues/fiz-14-38-2/fiz-38-2-10-1310-3.pdf
dc.language.isotur
dc.subjectFizik
dc.subjectTemel Bilimler (SCI)
dc.subjectTemel Bilimler
dc.titleAnnealing effects of ZnO thin films on p-Si(100) substrate deposited by PFCVAD
dc.typeMakale
dc.relation.journalTurkish Journal of Physics
dc.contributor.departmentSivas Cumhuriyet Üniversitesi , ,
dc.identifier.volume38
dc.identifier.startpage238
dc.identifier.endpage244
dc.contributor.firstauthorID450382


Bu öğenin dosyaları:

DosyalarBoyutBiçimGöster

Bu öğe ile ilişkili dosya yok.

Bu öğe aşağıdaki koleksiyon(lar)da görünmektedir.

Basit öğe kaydını göster